سیستم پاشش اولتراسونیک Polyimide و Photoresist

ثابت شده است که سیستم های پاشش اولتراسونیک برای کاربردهای مختلفی که نیاز به پوشش های یکنواخت و قابل تکرار برای پوشش فیلم های یکنواخت و قابل تکرار دارند ، مناسب است. با کنترل ضخامت از زیر میکرون به بیش از 100 میکرون و قادر به پوشیدن هر شکل و اندازه ، سیستم های پوشش جایگزین مناسب برای سایر تکنیک های پوشش مانند چرخشی و سمپاش سنتی هستند.

کاربردهای متداول پوشش های پلی آمید و فوتوریستی شامل MEMS ، لنزها ، دستگاه های میکروسیالی ، میکروالکترونیک و فیلترها نیست. سیستم های پوشش قادر به پوشش بسترهای مسطح و سه بعدی هستند ، به طور معمول از جمله تراشه های سیلیکون ، شیشه ، سرامیک و فلزات.

پاشش اولتراسونیک یک فرآیند ساده ، اقتصادی و قابل تکرار برای پوشش فتوسیست و پلی آمید است. سیستم پوشش اولتراسونیک می تواند با استفاده از تکنیک های لایه بندی ساده ، سرعت جریان ، سرعت پوشش و میزان رسوب را به طور دقیق کنترل کند. قالب اسپری با سرعت کم ، اسپری اتمی را به عنوان یک الگوی دقیق و قابل کنترل تعریف می کند تا از بیش از حد و تولید لایه های بسیار نازک و یکنواخت جلوگیری شود.

مزایای پوشش های پلی آمید اولتراسونیک و عکسهای عکسبرداری:

1. پوشش یکنواخت فیلم از خطوط مختلف سطح.
2. انعطاف پذیری بالا در خواص شیمیایی و پوشش.
3. بدون مسدود کردن اسپری اتمییز.
4. راندمان انتقال بالا با حداقل زباله.
5. فرآیند پاشش بالغ بسیار قابل تکرار.

سیستم پاشش اولتراسونیک از لرزش صوتی با فرکانس بالا برای تولید یک غبار نرم متشکل از قطرات تعریف شده ریاضی استفاده می کند. انسداد از بین می رود زیرا هیچ فشاری برای تولید اسپری استفاده نمی شود و قطرات دارای اندازه توزیع قطرات بسیار باریک هستند که بیشتر به یکنواختی لایه رسوب کمک می کند.