پوشش نانو ذرات اتمیزه سلول فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک

 

 

 

پوشش نانو ذرات اتمیزه سلول فتوولتائیک لایه نازک اولتراسونیک فرآیند پیشرفته ای است که از فناوری اولتراسونیک برای پوشش دقیق لایه های کلیدی سلول های فتوولتائیک فیلم نازک استفاده می کند. مزایای قابل توجهی در بهبود راندمان سلولی و راندمان تولید دارد و یک پشتیبانی فنی کلیدی برای ارتقای فرآیند صنعتی سازی سلول های فتوولتائیک لایه نازک است.
پوشش نانو ذرات اتمیزاسیون سلول فتوولتائیک فیلم نازک التراسونیک FUNSONIC FS620 عمدتاً برای آزمایش های کیفی در آزمایشگاه های علمی، تولید دسته ای کوچک و متوسط ​​و مناطق{1}} متوسط ​​استفاده می شود. کل دستگاه دارای ساختاری ساده و ظریف است که با استفاده از ماژول‌های حرکت دقیق سه محوره XYZ و مجهز به سیستم کنترل اختصاصی پاشش فراصوت FUNSONIC که به طور مستقل توسعه یافته است، به یک سیستم ویرایش مسیر جامع با عملکردهای منطبق و دستیابی به پاشش یکنواخت و دقیق دست می‌یابد.

 

 

 

 

 

1. پوشش یکنواخت بالا
میزان پاشش و محدوده پوشش پوشش را به دقت کنترل کنید
از پوشش یکنواخت و متراکم لایه های نازک کلیدی مانند لایه جذب نور و لایه الکترود اطمینان حاصل کنید.
2. ذرات اتمیزه شده در مقیاس نانو
این پوشش در مقیاس نانو به ذرات بسیار ریز اتمیزه می شود
بهبود چگالی و خواص الکتریکی پوشش و کاهش تلفات مواد
3. پوشش دمای پایین
اتخاذ فناوری پاشش اولتراسونیک در دمای پایین
از آسیب فیلم و کاهش عملکرد باتری ناشی از دماهای بالا جلوگیری کنید
4. راندمان تولید بالا
5. حفاظت از محیط زیست و حفظ انرژی
6. مناسب برای فن آوری های مختلف فتوولتائیک
می تواند برای پوشش سلول های فتوولتائیک لایه نازک مانند-Si، CIGS، CdTe و غیره استفاده شود.
پاسخگویی به نیازهای تولید مسیرهای مختلف فناوری فتوولتائیک

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

تگ های محبوب: پوشش نانو ذرات اتمیزه سلول فتوولتائیک فیلم نازک اولتراسونیک، پوشش نانو ذرات اتمیزه سلول فتوولتائیک فیلم نازک اولتراسونیک چین تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه