تجهیزات پیرولیز اسپری اولتراسونیک و سیستم پوشش TCO

اکسید قلع ایندی ایندیم فیلم نازک یکنواخت (ITO) ، اکسید روی دوپد شده آلومینیوم (AZO) ، اکسید روی (ZNO) و لایه های اکسید دوپ شده فلورین معمولاً توسط فناوری پیرولیز اسپری اولتراسونیک تولید می شوند. این فرایند منحصر به فرد برای ایجاد ضخامت و شکل پوشش لازم و اسپری راه حل های خورنده در محیط های درجه حرارت بالا نیاز به تجهیزات پوشش تخصصی دارد.

در طول پیرولیز اسپری اولتراسونیک درجه حرارت بالا ، محلول پیش ساز (مانند اکسید روی آلومینیوم) بر روی بستر گرم شده تا درجه 1 {1}} اسپری می شود. حلال در هنگام حمل و نقل تبخیر می شود و یک فیلم کریستالی ZnO بر روی سطح بستر ، معمولاً کلسیم سدیم یا سایر شیشه ها رشد می کند. دمای بستر معمولاً خصوصیات مورفولوژیکی فیلم را تعیین می کند.

رسوب مرطوب اسپری اولتراسونیک ، جایگزین مقرون به صرفه برای رسوب خلاء و لکه دار شدن ، با راندمان انتقال بالاتر را در اختیار تولید کنندگان قرار می دهد. اندازه قطره ای که توسط نازل اتمیزه کننده اولتراسونیک ایجاد می شود بسیار یکنواخت است ، که می تواند به اندازه بهینه قطرات برای واکنش پیرولیز دست یابد ، و تمام قطرات به طور همزمان به همان روش در طی فرآیند رسوب واکنش نشان می دهند. خواه تحقیق و توسعه باشد یا تولید انبوه ، این روند کارآمد تولید TCO را به همراه خواهد داشت.

استفاده از نازل اولتراسونیک Funsonic بر چالش فرآیند پاشش اسیدهای بسیار خورنده غلبه می کند. نازل از مواد ساختاری مقاوم در برابر خوردگی ساخته شده و خواص عدم انسداد ، تکرارپذیری و عمر طولانی را ندارد. حتی می تواند محلول های اسید هیدروکلریک بسیار فاسد یا اسید هیدروفلوئوریک را اسپری کند.

مزایای سیستم پیرولیز اسپری اولتراسونیک برای پوشش TCO:

1. در مقایسه با فرآیند CVD (رسوب بخار شیمیایی) ، تجزیه و تحلیل اسپری اولتراسونیک ساده ، انعطاف پذیر و مقرون به صرفه است.
2. تخصص پوشش TCO را اثبات کرد.
در مقایسه با سایر روشهای پاشش ، نازل های اولتراسونیک می توانند لایه های یکنواخت تری را سپرده دهند.
4. تنظیم و پارامترهای پوشش قابل تکرار آسان.
5. فناوری نازل اولتراسونیک ثبت شده کاملاً یکپارچه و تحویل مایع ، یک راه حل پوشش کامل را ارائه می دهد.
فرآیندهای جایگزین اسپری با دمای پایین (250 درجه و پایین تر) به طور مداوم در حال ظهور هستند و تحقیقات و توسعه بیشتری بر روی مواد شیمیایی انجام شده است که نیازی به بسترهای هدف با درجه حرارت بالا ندارند.